真空旋转蒸发仪装置图

真空旋转蒸发仪是一种常用的材料表面薄膜制备工具，它的装置图如下：

该装置主要由以下组件组成：

1.真空室：该部分用于提供高真空环境，通常采用不锈钢材质制作，并且有多个进出口，以方便连接其他部件。

2.旋转衬底：将待制备材料沉积在衬底上，通常采用圆形玻璃衬底，可以通过电机驱动实现旋转。

3.蒸发源：该部分是真空旋转蒸发仪的核心组成部分，其功能是将待制备材料加热，并将其蒸发到真空室中。蒸发源通常采用钨丝或电子束加热器，可以通过控制加热功率和蒸发速率来控制材料的沉积量。

4.光束照射器：这部分用于照射蒸发材料，将其激发成高能态，从而改变其表面化学性质。

5.衬底加热器：通常采用辐射加热方式，可以将衬底加热到高温，从而改变其表面形貌和化学性质。

通过上述组件的组合，真空旋转蒸发仪可以实现对材料表面的精确控制，从而制备出具有特定物理、化学性质的薄膜。该装置在材料科学、化学、物理等领域有着广泛的应用，特别是在微电子、光电子、纳米材料等领域有着重要的地位。